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2024년 6월 7일 (금)
- 차이역사 원자층 증착 14:26 +673 110.70.52.7 토론
- 차이역사 새글 원자층 증착 14:24 +905 110.70.52.7 토론 (새 문서: '''원자층 증착'''(Atomic layer deposition, ALD)은 가스상 화학적 과정의 순차적 사용을 기반으로 하는 박막 증착 기술이다. 이는 화학기상증착의 하위 분류이다. 대부분의 ALD 반응은 전구체(반응물이라고도 함)라는 두 가지 화학 물질을 사용한다. 이러한 전구체는 순차적이고 자체 제한적인 방식으로 한 번에 하나씩 재료 표면과 반응한다. 별도의 전구체에 반복...)